오정민 연구원은 "Plasma-Activated Gas for Atomic Layer Etching of Ruthenium"을 주제로,

이상원 연구원은 "Interfacial Layer Engineering via Plasma-Assisted Reductive Doping Process for Improving Electrical Properties of Pt/ZrO2/TiO2/TiN Capacitors"을 주제로 석사 학위 심사 발표를 마무리하였습니다.

석사 과정 동안 연구에 대한 진심과 열정을 바탕으로 많은 연구들을 수행하며 연구실에 의미 있는 기여를 하였습니다. 

그동안의 노력에 감사드리며, 고생 많으셨습니다!