싱가포르 Holiday Inn Atrium에서 2026년 7월 13일~17일 개최된 THINFILMS2026 (The 11th International Conference on Technological Advances of Thin Films & Surface Coatings)에 참가하였습니다.

안지환 교수님께서는 "Atomic Layer Surface Engineering of Solid Oxide Cell Electrodes"를 주제로 초청강연(Invited Talk)을 진행하셨습니다.

또한 연구실에서는 다음과 같은 구두 발표를 진행하였습니다.

이상원 연구원 : "Interfacial Layer Engineering via Plasma-Assisted ALD Doping Process for Improving Electrical Properties of ZrO₂-Based Capacitors"

오정민 연구원 : "Plasma-Enhanced Atomic Layer Etching of Ru via Gas Activation"

임재윤 연구원 : "Water-Free Surface Modification with Amorphous Nb₂O₅ Coating for Improved Stability of High-Ni NCM Cathodes via Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition"

이현민 연구원 : "Regulating Interfacial Charge Transport to Stabilize Ni-Rich Cathodes via Powder Atomic Layer Deposition"

이번 학회를 통해 박막 및 표면공학 분야의 최신 연구 성과를 공유하고, 원자층 증착(ALD) 및 박막 공정 분야의 국내외 연구자들과 활발한 학술 교류를 진행하는 뜻깊은 시간을 가졌습니다.