우리 연구실은 제주에서 개최된 APALD 2026 (Asia-Pacific Conference on Atomic Layer Deposition) 국제학회에 참석하여 원자층 증착(ALD) 및 표면 엔지니어링 기술과 관련된 다양한 연구 성과를 발표하였습니다.

안지환 교수님께서는 “Atomic Scale Engineering for Next Generation Energy Devices”를 주제로 초청강연(Invited Talk)을 진행하셨습니다.

임재윤 연구원은 “Flame-enhanced Atomic Layer Deposition Enables High-Voltage Lithium Metal Batteries by Suppressing Cathode-to-Anode Crossover”를 주제로, Tang 박사님은 “Plasma-assisted Atomic Layer Etching of Ruthenium with Gas-phase Activation by Microwave Plasma”를 주제로 구두 발표(Oral Presentation)를 진행하였습니다.

또한 조성은 연구원은 “Overcoming Activity–Durability Dilemma in Perovskite Air Electrodes with Self-Organized CeO₂₋ₓ Nanoparticles by Atomic Layer Deposition”를 주제로, 김상현 연구원은 “Cut-Off Voltage Dependence of Optimal ALD Al₂O₃ Cycle for Single-Crystalline High-Ni NMC Cathodes”를 주제로 포스터 발표(Poster Presentation)를 진행하였습니다.

아울러 중국 화중과기대학교(Huazhong University of Science and Technology)의 Rong Chen 교수님 연구그룹과 학술 교류회를 갖고, 양 연구그룹의 연구 성과를 공유하며 향후 연구 협력 방향에 대해 논의하였습니다.

이번 학회 참가를 통해 원자층 증착 및 표면 엔지니어링 분야의 최신 연구 동향을 파악하고, 국내외 연구자들과 활발한 학술 교류를 이어가는 뜻깊은 시간을 가졌습니다.